iPhone 20，基本确定了！

2026·05·25

iPhone X 已成过去，iPhone XX 才是未来。

如果要评选出一款 iPhone 近十年来的代表机型，我认为一定是 iPhone X。很多人都觉得数码产品的“设计”不重要，性能才是一切的核心。

说实话，如果颜值不重要，如果设计不重要，我们大可以回到那个用命令行操作电脑的时代。因为从纯效率的角度出发，代码可比图形界面效率高多了。

这个分寸感，并不是所有厂商都能掌控得当。还记得「全面屏」概念刚出现的时候，市面上存在各种千奇百怪的方案。

比如小米 MIX 系列把前摄移动到了下巴上，强行制造出「无边框」的即视感。更多的厂商，则是简单粗暴地把屏幕尺寸从 16:9 提升到 18:9，屏幕顶部、下巴都留出巨大的边框，一点都不协调。甚至还有弹出式前摄、滑盖等等。

直到 iPhone X 的发布，全面屏才有了标准答案。苹果并不试图隐藏摄像头，而是加入更先进的 Face ID，这样就有了充分的理由在屏幕里挖刘海。最后再定制一块异形 OLED 屏，把 Home 键彻底去掉，再重新设计了一套手势操作。

苹果的可怕不在于创新，在于定义标准的能力。我们也有理由相信，下一代 iPhone X——iPhone 20 周年纪念版，也要完成同样的使命。

那么，iPhone 20 大概会变成什么样呢？汇总网上各方爆料，以及供应链消息，这一次的 iPhone 20 周年纪念版，不再是单独的特殊机型，而是属于 iPhone Pro 序列，将带来以下 6 大改动。

1，四曲面 COE OLED 面板

iPhone 20 周年纪念版，最核心的改变在于屏幕。苹果正在让三星定制 OLED ，它的四边采用了特殊的微曲面设计，让屏幕边缘自然向机身延伸，视觉观感可以理解为“内容直接漂浮在玻璃上”，同时又能防止屏幕边缘画面扭曲。

2，新一代 COE 技术

同时，这块定制 OLED 屏还会采用 COE ，也就是彩色滤光封装技术。简单来说就是去掉了 OLED 偏光膜，减少了屏幕内部光线的损耗，并且升级了抗反射涂层来解决反光问题。它的屏幕在同等亮度下功耗更低，而且可以做得更薄。

3，屏下人脸识别

根据 Ross Young 曝光的路线图，真正全面屏，无打孔的 iPhone，要等到 2030 年才能到来。iPhone 20 周年纪念版预计会采用屏下 Face ID + 打孔前摄技术，这对比起 iPhone 18 Pro 只是缩小刘海，技术依然先进一代。

4，硅碳 / 硅负极电池

根据 ETNews 报道，iPhone 20 周年纪念版，有望首次采用硅碳电池技术。这种电池用硅取代传统石墨作为负极，每克材料可存储的锂离子更多，可以在同等体积、重量下，明显提升续航水平——大概同体积提升10%～20%。

5，LOFIC 图像传感器技术

根据韩媒爆料，iPhone 20 周年纪念版有望引入 LOFIC 技术。简单来说，LOFIC 的思路是在每个像素里，增加一个额外的“蓄水池”，保留被浪费的光线，因此可以同时保留亮度和亮度细节，其动态范围最高可以提升至 20 档。

6，升级 A21 芯片

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iPhone 20 周年纪念版可能会使用台积电第二代 2nm 工艺，通常来说，新工艺的初代都会因为密度的陡然增加，良率、功耗控制、封装散热，很容易出现问题，第二代才真正完全成熟，比如 N3E 就是典型的例子。

以上就是 iPhone 20 的所有爆料，主要的变化都在外观方面。

它跟 iPhone X 的使命不同，前者是为了普及全面屏，设计是为了功能而服务。

你会因为好看，而等待 iPhone 20 吗？