
专利还原:唯卓仕 AF 85mm F2 EVO
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声明:本文在原有专利基础上对系统架构做了微调,在保证系统像质的同时降低了系统畸变,提升了相对照度。
本文将按照以下脉络对唯卓仕 AF 85mm F2 EVO镜头专利进行还原与优化:1、镜头简介;包含:镜头外观与光学架构,镜头设计参数,系统成像质量三部分。2、专利信息;包含:专利基本信息,专利镜头详细参数,专利镜头成像质量三部分。3、专利还原与优化;包含:专利输入,专利还原与优化,系统成像质量三部分。

一、镜头简介
1.1、镜头外观与光学架构
镜头外观:唯卓仕AF 85mm F2 EVO是唯卓仕于2025年10月20日发布的EVO系列首款全画幅自动对焦镜头。该镜头是唯卓仕全新EVO系列的首款产品,定位高于Air系列、低于Pro系列,主打画质、便携与价格的平衡。发布后,其在京东等平台上线,首发价为1166.1元,提供索尼FE和尼康Z两种卡口版本。

光学系统架构:采用3组10片架构

1.2、镜头设计参数
该镜头的核心设计参数:焦距85mm、F数2、视场21.64mm(像高),详细设计参数如下图4所示。

1.3、系统成像质量
官方提供了物方截距无限远时系统的成像质量,包含:F数2时10lp/mm、30lp/mm的成像质量,F数为8时10lp/mm、30lp/mm的成像质量。

二、专利信息
2.1、专利基本信息
发明名称:中长焦定焦摄影镜头
公开号:CN 119355926 A
发行国:中国国家知识产权局
公开日期:2025.01.24
申请人:深圳市爵影科技有限公司
发明人:黄木基
专利关键信息:唯卓仕 AF85mm F2 EVO专利提供了同一架构下的三个不同优化结果,其中与官网出售镜头最接近的是专利实施例一。
2.2、专利镜头详细参数
专利镜头详细参数包含两部分:a、镜头结构,b、镜头详细参数(曲率、折射率、阿贝数、口径等)。专利实施例一详细信息如下:
a、镜头结构
该系统由三组10片透镜构成,G1为前固定组、G2为对焦组、G3为后固定组,对焦时G2部分整体移动。按光阑位置将透镜组分为LF、LR两部分。其中,LF组包含一组5片元件,LF为改进高斯结构;LR组包含两组5片元件。

b、镜头详细参数
该镜头为全球面式光学系统,镜头参数比较简单,各个表面详细参数如下图7所示:


2.3、专利镜头成像质量
该专利提供了物截距无限远、物截距0.74m时系统成像质量,成像质量包含:球面像差(专利中名称)、场曲畸变图。


三、专利还原
专利还原过程中主要采用的优化变量,各个表面曲率半径、变焦位置空气间隔(仅物截距0.74m时使用,本专利10、15面空气间隔),未使用其他元件厚度(仅调整了表面13厚度)、元件间空气间隔、未对各元件材料进一步优化。在还原过程中对系统架构做了微调,即元件6、元件7、元件10做了调整,调整后系统畸变有所降低、系统相对照度有所提高。
3.1、专利输入
按照专利所提供的参数输入至ZEMAX中,得到如下图所示初始结构:

3.2、系统优化
使用CODE V与ZEMAX联合优化,大致5-8轮优化后,系统基本满足指标要求,同时系统成像质量达到专利中提供的成像质量要求,此时不再继续优化(笔者仅粗优化至满足像质,后续还可以再继续微调)
优化后光学系统2D图,如图10所示

3.3、优化后系统成像质量
系统成像质量分两部分进行阐述:a、物方无限远(F数2、F数5、F数8),b、物截距0.74m(F数、F数5、F数8)
a、物方无限远
F数2.0(全开,实际2.088)
全开时系统轴向色差最大97um(优化时未加约束控制,后续可微调再进一步优化)、垂轴色差4.6um左右,场曲非常小、畸变在0.52%以内,相对照度较高,系统整体像质不错。调整后的架构畸变降低较为明显、相对照度显著提高。

F数5.0

F数8.0

b、物截距0.74m
F数2.0

F数5.0

F数8.0
