英特尔 CEO 称 18A 制程工艺表现良好,其技术亮点和市场意义何在?
就目前所掌握的一些信息来看,18A制程工艺,确实有一些可以吹的地方。
比如8 倍光罩尺寸,内部大型逻辑计算单元Logic Tiles一共集成有 4 个,

还有:12 个 内存堆栈,全都是HBM4 级别的。
当然,也包括 2 个输入输出的I/O 单元。

在前不久英特尔公布的一款工程样机上,可以看到:
核心逻辑单元采用18A 工艺,
集成 RibbonFET ,全环绕栅极晶体管;
并且是 PowerVia 背面供电技术。这对于提升逻辑密度和电源稳定性,是一个有力的保证。

重点是芯片堆叠,依靠3D 封装技术实现垂直堆叠芯粒Chiplets;
而基础芯片Base Dies,就充当大缓存或处理额外任务。
在英特尔的设计思路里,18A技术并非只能单打独斗。
在堆叠技术完美Bingo之后,
就是基础Tile 之上的主计算 Tile,可以采用Intel 14A 或 14A-E 工艺;

两者是通过 Foveros Direct 3D 技术垂直互连的,
混合键合Hybrid Bonding实现小间距高速通信;

然后呢,18A 节点就主要用于英特尔自家产品了,
而14A 节点这部分,可以明确为开放工艺,面向第三方客户;
好了,这种封装生态系统的高度可扩展,才是英特尔在制造和封装领域领先地位的证明。
要问最大的技术亮点,应该也就在这里了。
另外,供电也采用了全套创新技术:
电压调节器置于每个堆栈及封装下方。
能确保不损失电压余量,也就起到了稳定电力的作用。
上面提到的那款工程样机,是前不久英特尔自己透露出来的。
这说明关键的参数要点,已经有了扎实的数据验证。
也就是说,距离实际量产制造,已经非常接近了。
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